光学镜面离子束抛光中的离子源稳定性研究

作者：段金鑫 解旭辉 周林离子源稳定性离子束加工去除函数线扫描法

摘要：用线扫描方法研究某种型号的3cm卡夫曼离子源的稳定性,先介绍了线扫描法估计去除函数的方法以及其数学模型,用线扫描法扫描两块微晶镜面,估计出在不同时间的去除函数,分析去除函数的波动情况来考察离子源稳定性。结果表明该种型号的3cm卡夫曼离子源具有很好的稳定性,满足光学镜面加工要求。

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