作者：陈加琪; 齐润泽; 冯宇飞; 黄秋实; 王占山同步辐射磁控溅射表面粗糙度反射率
摘要：同步辐射广泛使用Au薄膜作为反射镜膜层,降低Au薄膜的粗糙度以减小散射信号仍是难点。基于国内外对Au薄膜的研究,本文采用在Au薄膜中插入Pt间隔层的方法,制备了新型Au-Pt薄膜。原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)测试结果表明:采用1nm厚的Au膜层和1nm厚的Pt间隔层交替制备的方法所获得的新型Au-Pt薄膜,粗糙度小于0.3nm,明显小于传统Au薄膜的粗糙度;通过X射线衍射(X-ray Diffractometer,XRD)测试可以发现,Pt间隔层的插入能够有效抑制Au膜结晶。随着Pt间隔层插入间隔的减小,Au膜结晶程度显著降低。根据AFM测试结果,使用IMD软件计算了传统Au薄膜以及新型Au-Pt薄膜的反射率,发现新型Au-Pt薄膜反射率比传统Au薄膜略有提高,同时新型Au-Pt薄膜的表面粗糙度更小,降低了散射强度,提升了反射镜的实际性能。本文为用于同步辐射的高传输效率、高反射率的Au-Pt薄膜反射镜的制备提供了参考。
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