上海交大提出自组装单分子膜掺杂技术新方向

自组装单分子膜掺杂技术上海交大上海交通大学研究人员缺陷态课题组硅衬底

摘要：上海交通大学密西根学院但亚平课题组研究发现，自组装单分子膜掺杂会在硅衬底引入碳缺陷，从而降低硅中磷杂质的电学激活率。研究人员由此提出了自组装单分子膜掺杂技术的研究方向，为发展无缺陷态的单分子膜掺杂技术奠定了基础。相关成果日前发表于《自然一通讯》杂志。

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