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电阻热蒸发与磁控溅射对制备二维银纳米阵列的影响

作者:李昌伟; 张春婧; 孔令琦纳米球刻蚀电阻热蒸发磁控溅射沉积方向吸收光谱

摘要:利用纳米球刻蚀法制备二维银纳米阵列的过程中,不同的物理气相沉积方法得到的银纳米阵列结构形貌不同。其中电阻热蒸发沉积得到完整三角形状的二维银纳米阵列,而磁控溅射沉积得到蜂窝状银纳米阵列。同时在沉积过程中通过改变金属粒子沉积方向也可获得结构不同的银纳米阵列,其中将基片固定,使蒸发源垂直沉积时制备出的二维银纳米阵列更加致密、完整。最后吸收光谱验证了采用电阻热蒸发垂直沉积时得到结构完整且面积较大的银纳米阵列,以上研究为二维银纳米阵列的应用提供了条件。

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化工新型材料

《化工新型材料》(月刊)创刊于1973年,由中国石油和化学工业联合会主管,中国化工信息中心主办,CN刊号为:11-2357/TQ,自创刊以来,颇受业界和广大读者的关注和好评。 《化工新型材料》主要报道国内外新近发展和正在开发的具有某些优异性能或特种功能的先进化工材料的研究开发、技术创新、生产制造、加工应用、市场动向及产品发展趋势。

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