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烧结法制备含低水溶钾的六钛酸钾晶须

作者:王昌松; 冯新; 史以俊; 陆小华烧结法水溶钾六钛酸钾晶须酸洗超声波清洗

摘要:研究了烧结法制备的六钛酸钾晶须(PTW)中的水溶钾.实验发现:水溶钾并不是来自PTW晶体的溶解;水溶钾溶出很缓慢;悬浮液pH值随水溶钾含量增加而升高.根据实验现象,从PTW生长机理分析认为PTW表面纳米缝隙中存在的微量K2O导致水溶钾的产生.将烧结法制备的PTW在pH=4.5的溶液中浸泡8 h以上或者超声波清洗,可以获得水溶钾含量少于0.1‰(质量),且满足复合材料使用要求的PTW.硅烷偶联剂(A186) 改性PTW不影响水溶钾析出,而无机包裹(SiO2) PTW水溶钾析出减少.

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