作者:魏巍; 刘宇清洁验证设备残留hplc检测线性重复性
摘要:GMP中要求制药企业需要对生产设备进行清洁验证,为了确保吡拉西坦分散片生产设备系统的清洁效果,考察其有效成分(最低残留限度为擦拭法为1.5ppm和淋洗水为1.74ppm)的残留情况,建立可行的HPLC分析法适用于吡拉西坦分散片设备残留的检验方法。
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