作者：覃峰; 付强; 严伟浩; 姚科基托材料可摘局部义齿边缘适合性刮除活动义齿上颌温经目的观高度结论
摘要：目的观察腭顶高度与可摘局部义齿对后腭边缘适合性,以确定适当的用材和技术.方法采用由室温经40分钟升温至100℃,维持30分钟的水浴聚合法,用贺利氏公司生产的基托材料,分别为腭顶高度为14mm和7 mm的上颌模型制作活动义齿基托,用读数显微镜(0.005 mm),在开盒后及浸水1周时,测量基托后腭边缘的适合性.结果基托适合性受腭顶高度的影响具有统计学意义,高腭项基托的适合性较低腭顶者差(P＜0.05).结论适当刮除可摘局部义齿石膏模型上后腭边缘可提高基托适合性,建议刮除的深度可随腭顶高度的不同而不同.腭顶高者可多刮除一些.
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