作者：张栋; 赵成强; 徐文东; 张益彬; 闫昱琪全息光栅干涉条纹相位锁定光栅周期干涉光刻
摘要：采用双光束干涉曝光法制作大尺寸全息光栅时,由于温度变化、空气流动、振动等因素的干扰,曝光条纹相对于光栅基板存在平移和周期变化,从而造成光栅对比度下降。分析了大尺寸光栅曝光过程中条纹的动态变化情况,结果表明：3h内条纹平移和周期变化的均方根值分别为1.87、1.20个条纹周期,对比度的数值模拟结果分别为12.83%、67.37%.构建了由三组条纹监视系统、计算控制系统和两组压电位移台组成的曝光条纹锁定系统,实现了条纹平移和周期的同时锁定.锁定之后得到的光栅槽型和对比度明显优于未锁定时的情形,锁定精度为：平移3σ值为0.009个条纹周期,对比度为99.99%,周期变化均方根值为0.017个条纹周期,对比度为99.77%,满足大尺寸光栅曝光对条纹稳定性的要求.
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