HI,欢迎来到学术之家,发表咨询:400-888-7501  订阅咨询:400-888-7502  股权代码  102064
0

亚皮秒脉冲激光辐照硅薄膜热效应的模拟研究

作者:石颖; 郑楠; 梁田; 徐攀; 丁征; 齐文宗超短脉冲激光硅膜自相关模型有限差分法单光子吸收双光子吸收俄歇复合

摘要:基于Boltzmann方程,采用了Chen J K等人建立的自相关模型,考虑了Si薄膜的热容、热导率、弛豫时间等热力学参量随温度非线性变化的影响.采用有限差分法,数值求解了脉宽为500 fs的激光脉冲辐照2 μm厚硅膜的自相关模型.分析了膜表面载流子浓度、载流子温度、晶格温度等随入射激光功率和脉宽等的变化规律.结果表明:在脉冲辐照初期(t〈0.68 ps),载流子和晶格之间存在着明显的非热平衡性,之后通过相互之间的弛豫碰撞,逐渐达到热平衡,载流子热容是引起载流子温度在早期迅速上升的原因;载流子温度速率方程中单光子吸收、载流子-晶格能量交换和载流子能流变化率对载流子温升影响较大,而多光子吸收、双极能流和带隙能量变化率对载流子温升的影响较小,可以忽略;较高脉冲激光能量(Ф>0.02 J·cm^-2)辐照Si膜,会引起载流子密度方程中的俄歇复合项增大,从而使载流子密度下降率增大,导致载流子温度出现双峰.

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

光子学报

《光子学报》(CN:61-1235/O4)是一本有较高学术价值的大型月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《光子学报》宗旨是展示光子学研究领域的新理论、新概念、新思想、新技术和新进展,反映代表本学科前沿并具有国内外先进水平而为国际上关心的最新研究成果,促进国内外学术交流和讨论。

杂志详情