作者：郑国兴; 杜春雷; 邱传凯阵列波导光栅awg结构参数制作材料sio2光波导激光直写光刻icp反应离子刻蚀
摘要：介绍了阵列波导光栅(AWG)在设计中要考虑的主要结构参数,制作材料,误差来源等.论述了利用CVD制作AWG所需SiO2光波导的化学过程及其特点,给出了我们制作的光波导的测试数据.给出了通过调整局部设计数据而得到的较好面型的激光直写AWG图形.介绍了我们利用RIE刻蚀得到的AWG实验晶片和利用ICP刻蚀AWG的可行性.
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
《光子技术》（CN：44-1601/TN）是一本有较高学术价值的大型季刊，自创刊以来，选题新奇而不失报道广度，服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《光子技术》坚持为社会主义服务的方向，坚持以马克思列宁主义、思想和邓小平理论为指导，贯彻“百花齐放、百家争鸣”和“古为今用、洋为中用”的方针，坚持实事求是、理论与实际相结合的严谨学风，传播先进的科学文化知识，弘扬民族优秀科学文化，促进国际科学文化交流，探索防灾科技教育、教学及管理诸方面的规律，活跃教学与科研的学术风气，为教学与科研服务。
省级期刊
人气 366631 评论 69
人气 251523 评论 66
人气 248173 评论 47
部级期刊
人气 247117 评论 10
