作者：高晓丹; 张晓晖; 陈清明; 潘峰窄带滤光片均匀性aps1104镀膜机蒸发特性
摘要：为了解决膜层层数在一百多层以上的膜系在镀制过程中所必然存在的膜厚均匀性问题，定义了一个与镀膜机的结构参数、工艺参数以及基片几何参数均有关系的均匀性函数。以APS1104镀膜机为实验对象，针对多腔窄带滤光片膜系，根据此函数分析了镀膜机镀制较多层数薄膜时，其膜层厚度沿基片径向的变化规律，确定了影响膜厚均匀性的多种因素，解释了镀制多腔窄带滤光片薄膜成品率低的原因。实验结果证实了分析的正确性。
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