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MPCVD法加偏压下金刚石膜的成核行为

作者:刘传先; 武文远金刚石膜成核mpcvd

摘要:用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD),探讨了在Si(100)衬底上加偏压电场情况下金刚石膜的成核行为.侧向力显微(LFM)表明偏压电场对金刚石成核有促进作用,并分析了偏压电场促进金刚石成核的机制.

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光学仪器

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