作者：黄腾超; 沈亦兵; 陈海星; 娄迪; 侯西云k9玻璃湿法刻蚀微光机电系统抗腐蚀掩膜moems器件
摘要：介绍了以K9玻璃为基体材料MOEMS器件的湿法刻蚀工艺.选择了光刻胶,铬,氮化硅,ITO等多种材料作为基底材料抗腐蚀的掩膜,利用多种不同成分的刻蚀剂进行了对比刻蚀试验,研究了刻蚀环境温度对保护膜的影响.对比与分析了多种试验结果并对其适用范围进行了适当的评价.
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