作者：林炳; 刘定权; 张凤山膜厚测量数据拟合光学薄膜离子束刻蚀刻蚀速率定标
摘要：离子束刻蚀技术现在越来越多被应用在可见光乃至红外薄膜中,在这一技术中最为关键的环节就是如何精确地测量离子源对薄膜的刻蚀速率,此速率因不同材料不同工艺条件而变化.现在利用光谱测量与数据拟合的方法,能够快速简便地测定出被刻蚀的材料的物理厚度,从而标定离子束刻蚀的速率.
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
《光学仪器》（CN：31-1504/TH）是一本有较高学术价值的大型双月刊，自创刊以来，选题新奇而不失报道广度，服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《光学仪器》通过学术交流、行业科技信息传播、科研成果推广，保进我国光学工业的发展并满足市场经济的需要，为广大读者服务。
省级期刊
人气 41228 评论 63
统计源期刊
人气 35018 评论 64
北大期刊、CSCD期刊、统计源期刊
人气 32191 评论 45
人气 30044 评论 55
