作者:陆斌; 吴玉交烟幕成像跟踪外场试验干扰效能
摘要:利用发烟源结合外场运动目标,构建典型条件下的外场烟幕测量试验,通过多光谱成像传感器采集数据,验证和修正该类型烟幕的消光模型。并且通过采用典型跟踪算法的专用成像跟踪器,测量各种烟幕施放条件下干扰目标得到的跟踪误差。试验数据经过分析及与烟幕经典理论计算方法对比,得到了其干扰效能规律,为该类烟幕的使用和对成像传感器干扰效果提供了可靠的依据。
注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社
《光学与光电技术》(双月刊)创刊于2003年,由湖北省科学技术协会主管,华中光电技术研究所;湖北省光学学会;武汉光电国家研究中心主办,CN刊号为:42-1696/O3,自创刊以来,颇受业界和广大读者的关注和好评。 《光学与光电技术》主要刊载光学与光电子技术领域在应用基础研究前沿开展的战略性和前瞻性的研究工作,包括光电子材料与器件、激光科学与技术、军用光电技术与系统、光电成像与检测、光通信系统与智能网络、光电信息处理、光电信息存储、生物医学光子学、光纤光学、纳米光电子学、微纳光电子机械系统、LED与固态照明、光学显示...
省级期刊
人气 366671 评论 69
人气 252071 评论 66
人气 249314 评论 47
部级期刊
人气 248263 评论 10