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基于远场干涉的扫描干涉场曝光光学系统设计与分析

作者:鲁森; 杨开明; 朱煜; 王磊杰; 张鸣衍射扫描干涉场曝光干涉条纹高斯激光空间滤波器菲涅耳衍射

摘要:高斯光在远离束腰位置能得到直线度极高的干涉条纹,基于此提出了一种基于远场干涉的新型扫描干涉场曝光(SBIL)系统。建立了条纹相位非线性误差关于高斯光束腰半径、入射角度及束腰到基底距离的解析表达式。通过数值仿真,详细分析了条纹相位非线性误差与上述参数的关系。研究结果表明,该光学系统可以有效地将条纹相位非线性误差限制在纳米量级,并具有光路简洁、装调误差宽容度较高的优点。适当缩短束腰到基底的距离,可有效解决曝光光斑边界处条纹相位非线性误差恶化的问题。

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光学学报

《光学学报》(半月刊)创刊于1981年,由中国科学技术协会主管,中国光学学会;中国科学院上海光学精密机械研究所主办,CN刊号为:31-1252/O4,自创刊以来,颇受业界和广大读者的关注和好评。 《光学学报》主要刊登以光学科研为主体(交叉学科须侧重光学领域),有广阔研究前景、具有国内外领先水平或独创意义的学术论文,有一定独立见解的理论论述,有可靠数据的实验报道,有科学依据的技术应用,阶段性科研成果的实验快报。

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