作者：陶淑芬; 周效锋材料光致发光热氧化法nb氧化物薄膜非晶纳米材料
摘要：在低真空及亚高温（200-300 ℃）下,通过热氧化法在Si单晶基底上合成了呈准直阵列的椎形结构的氧化铌（NbOx）非晶结构纳米薄膜,薄膜经热处理后室温下在可见光区具有很好的光致发光。实验研究了退火温度与发光强度规律,对铌氧化物纳米薄膜的光致发光（PL）机制进行了初步分析和讨论。变功率光致发光（PL）实验有力地支持了初步讨论结果。
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《光学学报》（半月刊）创刊于1981年，由中国科学技术协会主管，中国光学学会;中国科学院上海光学精密机械研究所主办，CN刊号为：31-1252/O4，自创刊以来，颇受业界和广大读者的关注和好评。 《光学学报》主要刊登以光学科研为主体（交叉学科须侧重光学领域），有广阔研究前景、具有国内外领先水平或独创意义的学术论文，有一定独立见解的理论论述，有可靠数据的实验报道，有科学依据的技术应用，阶段性科研成果的实验快报。
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