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氮气交流放电光谱强度和电压及气压的关系

作者:孙殿平; 李炯; 杨晓华; 刘煜炎; 陈扬骎光谱学交流放电浓度调制光谱学激发函数电离函数

摘要:利用浓度调制光谱技术,测量了玻璃管中放电频率20kHz时N2的介质阻挡放电光谱。实验记录了N2的C^3∏u-B^2∏R 357.7nm和N2^+的B^2∑^-u-X^2∑^+8 391.4nm的跃迁谱线光谱强度随不同电压和气体压强变化规律。实验数据显示,保持气体压强P=130Pa不变,在电压较低时,光谱强度随电压增长较快,在电压较高时,光谱强度增长较慢;保持放电电压U=6.4kV不变,光谱强度随气压增长逐渐变小。根据电子和分子碰撞激发函数和电离函数,建立光强随放电参数变化的物理理论模型和公式,并对实验数据进行数学拟合,拟合曲线与实验结果符合较好,相关系数R〉0.9。进一步明确了等离子体发射光谱强度随不同电压和气体压强变化的机理。

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光学学报

《光学学报》(半月刊)创刊于1981年,由中国科学技术协会主管,中国光学学会;中国科学院上海光学精密机械研究所主办,CN刊号为:31-1252/O4,自创刊以来,颇受业界和广大读者的关注和好评。 《光学学报》主要刊登以光学科研为主体(交叉学科须侧重光学领域),有广阔研究前景、具有国内外领先水平或独创意义的学术论文,有一定独立见解的理论论述,有可靠数据的实验报道,有科学依据的技术应用,阶段性科研成果的实验快报。

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