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利用均匀相位掩模板制作线性啁啾光纤光栅

作者:李彬; 刘艳; 谭中伟; 许鸥; 鲁韶华; 简水...光纤光学啁啾光纤光栅线性啁啾色散均匀相位掩模板紫外曝光

摘要:理论上分析并从实验上验证了一种利用均匀相位掩模板写入啁啾光纤光栅的方法:将光纤弯曲,由于光纤离掩模板的距离不同从而使光纤光栅的周期轴向渐变,由此产生啁啾。分析了这种啁啾光纤光栅的谱特性和时延特性,同时也分析了由于光纤离掩模板的距离不同而引起的折射率调制变化给光纤光栅特性带来的影响。设计了一种石英曲面,利用其使光纤按照弯曲函数进行弯曲,然后进行紫外曝光制成了线性的啁啾光纤光栅。实验中制作的啁啾光纤光栅色散值为-1102ps/nm,纹波为17ps。通过改变弯曲函数就可以实现利用一块均匀相位掩模板制作不同啁啾量的啁啾光纤光栅的目的,降低了啁啾光纤光栅的制作成本。

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光学学报

《光学学报》(半月刊)创刊于1981年,由中国科学技术协会主管,中国光学学会;中国科学院上海光学精密机械研究所主办,CN刊号为:31-1252/O4,自创刊以来,颇受业界和广大读者的关注和好评。 《光学学报》主要刊登以光学科研为主体(交叉学科须侧重光学领域),有广阔研究前景、具有国内外领先水平或独创意义的学术论文,有一定独立见解的理论论述,有可靠数据的实验报道,有科学依据的技术应用,阶段性科研成果的实验快报。

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