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多模干涉耦合器一般成像位置分析

作者:孙一翎; 江晓清; 王明华集成光学成像位置多模十涉耦合器自映像原理导模传输分析法波导光学

摘要:自映像效应是多模波导的一个重要特性,利用多模波导自映像效应制成的多模干涉耦合器被广泛地应用于集成光学回路中。然而根据以往的文献要得出多模干涉耦合器的成像位置要经过一系列复杂的计算。根据多模干涉耦合器的自映像原理,对多模干涉耦合器的成像位置进行分析。成像位置与输入场位置和位置数密切相关,给出了成像位置的解析表达式,得出奇数、偶数的位置数的成像位置分别对应相同,并且奇、偶数的位置数所对应的成像位置之和为多模波导宽度的成像规律。用导模传输分析法验证了表达式和成像规律的正确性。根据成像位置的表达式和成像规律可以直接得出任意输入场位置和位置数所对应的成像位置。为一维和二维限制的多模干涉耦合器的设计提供了理论基础。

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光学学报

《光学学报》(半月刊)创刊于1981年,由中国科学技术协会主管,中国光学学会;中国科学院上海光学精密机械研究所主办,CN刊号为:31-1252/O4,自创刊以来,颇受业界和广大读者的关注和好评。 《光学学报》主要刊登以光学科研为主体(交叉学科须侧重光学领域),有广阔研究前景、具有国内外领先水平或独创意义的学术论文,有一定独立见解的理论论述,有可靠数据的实验报道,有科学依据的技术应用,阶段性科研成果的实验快报。

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