新型正电荷标记试剂的反应优化及应用

作者：曾帅; 惠人杰; 冯柏年dmap化学修饰多肽液质联用

摘要：针对一种正电荷标记试剂4-二甲氨基吡啶(DMAP)对5种多肽进行化学修饰反应,并采用单因素试验法对反应条件进行优化。利用液质联用技术,分析反应产物的质荷比和离子峰峰面积来确定最佳反应条件。依据检测数据最终确定了DMAP对多肽修饰反应的最佳条件为:pH=11.1,投料比为1:20,反应时间1h,反应温度25℃,并实现了DMAP对五种多肽的修饰。

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