作者：胡玉良; 刘国宏; 周晓东; 韩万飞; 温维丽...浸渍炭x射线光电子能谱铜氧化物深度剖析氢氰酸氯化氰
摘要：通过制备单一组分的铜浸渍炭(Cu-AC),应用X射线光电子能谱(XPS)分析技术研究浸渍炭中铜氧化物的化学态及其随深度的变化。结果表明:浸渍炭表面的Cu主要以CuO化学态存在,内部主要以Cu2O化学态存在;浸渍炭防护HCN的反应在其表面和内部同时发生,而对ClCN的防毒作用主要在浸渍炭的表面进行。本研究为调控浸渍炭的制备工艺和生产条件提供参考,进一步提高防护性能、保证产品质量稳定。
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