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砷化镓0.25μm PHEMT开关模型研究

作者:郑惟彬 李拂晓 李辉 沈亚 潘晓枫 沈宏昌砷化镓膺配高电子迁移率晶体管开关模型

摘要:借助于传统的FET等效电路模型,给出了0.25μm GaAs PHEMT的开关模型,并在ICCAP和ADS软件中,完成等效电路参数的提取与优化。通过对单刀单掷(SPST)开关的仿真和测试,表明,在0.1~20GHz的频域内,其“开”态插入损耗误差、端口1和端口2的电压驻波比误差分别小于0.3dB、0.24和0.19;其“关”态隔离度误差、端口1和端口2的电压驻波比误差分别小于1.9dB、0.12和0.08。文中得到的PHEMT开关模型将有助于控制类单片集成电路的研究与开发。

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固体电子学研究与进展

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