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SiWN/SiWON双吸收层薄膜的光吸收性能

作者:张翼麟; 王聪; 孙莹; 王蕾; 宋平; 代蓓蓓硅钨氮化物光学常数磁控溅射吸收率

摘要:采用磁控溅射法在玻璃基底上制备了氮化物SiWN和氮氧化物SiWON层。通过拟合反射光谱和透射光谱数据,分别获得两个吸收层的折射率和消光系数。SiWN层的折射率大于0.75,消光系数大于1.25并且随着波长的增长而增加,表现出金属性质。SiWON层具有低的消光系数(0.5~1.5),表现出半导体性质。根据SiWN和SiWON单层的光学常数,模拟得到理论吸收率为0.901的SiWN/SiWON双吸收层。根据拟合得到的参数,制备了吸收率为0.895的双吸收层。

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硅酸盐学报

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