作者：姚桂生; 李勇; 金秀明; 龙梦龙; 秦海霞; ...高温稳定性热力学氧分压氧氮化硅氮化硅硅
摘要：硅粉生坯经过初次氮化制得硅–氮化硅–氧氮化硅体系的试样,分别于1 500和1 600℃氮气气氛下进行重烧实验,研究了高温稳定性。结果表明：在Si2N2O（s）与Si（l）两相接触的界面处,两者反应生成Si3N4（s）和介稳态SiO（g）。1 500℃重烧时体系氧分压[p（O2）]处于Si2N2O相稳定存在的区间,故1 500℃重烧试样中Si2N2O相含量高;1 600℃重烧时体系p（O2）小于Si3N4相能够稳定存在的临界值,Si（l）直接氮化生成Si3N4（s）,故1 600℃重烧试样中β-Si3N4相是主要物相。体系中的SiO（g）与CO（g）反应生成纤维状SiC,由于SiO分压[p（SiO）]与温度T负相关,因此1 500℃重烧试样中SiC相的含量高于1 600℃重烧试样的。试样随炉冷却过程中,部分介稳态SiO（g）会与N2（g）反应生成α-Si3N4（s）。
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