作者：张天播; 赵高凌; 郑鹏飞; 徐刚; 汪建勋; ...氮化钛常压化学气相沉积喷涂距离
摘要：以TiCl4和NH3为原料，用常压化学气相沉积法在玻璃基板表面沉积得到了TiN薄膜。采用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、电阻仪、紫外-可见光谱仪等研究了喷涂距离（输入TiCl4管道末端到基板之间的距离）对沉积的TiN薄膜的结晶性能和表面形貌，以及薄膜的电学性能和光学性能的影响。结果表明：当喷涂距离为5cm和10cm时，玻璃基板表面形成电阻较高、反射率较低的较疏松薄膜。当喷涂距离增加到13cm和15cm时，可以得到结晶良好、低电阻、高反射、致密的TiN薄膜。当喷涂距离进一步增加到20cm以上，得到的薄膜的电阻率随之升高而反射率下降。对喷涂距离对薄膜性能的影响机理进行了分析，认为喷涂距离的变化会影响扩散到达并吸附在基板表面的反应物分子数量比例，进而影响沉积薄膜的性能。
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