作者：杨文彬; 张立同; 成来飞; 徐永东; 刘永胜低压化学气相沉积掺硼碳薄膜片层结构x射线光电子能谱x射线衍射
摘要：以BCl3和C3H6分别作为低压化学气相沉积制备掺硼碳材料的硼源和碳源，采用热壁化学气相沉积炉，于1100℃在碳纤维基底上制备了掺硼碳薄膜。采用扫描电镜、X射线衍射和X射线光电子能谱对样品作了表征。结果表明：产物表面光滑，断面呈细密的片层状结构，产物由B4C和石墨化程度较高的热解碳组成。采用掺硼碳薄膜中含有15％（摩尔分数，下同）硼。硼原子化学键结合状态共有5种，分别是：B4C的中的B-C键，硼原子替代固溶在类石墨结构中形成的B-C键，BC2O和BCO2结构中B-C键和B-O键的混合态，以及B2O3中的B-O键。其中超过40％的硼原子以替代固溶的形式存在于热解碳的类石墨结构中。
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