电子束光刻光阻材料聚甲基丙烯酸甲酯台湾地区制作技术纳米级解析结构高分子
摘要：电子束光刻（electron beam lithography）是一种以电子束为工具的纳米制作技术，它是利用电子束在光阻上绘制纳米级图案，再经后续显影步骤，即可轻易制作出线宽仅数纳米的高解析结构。其中，高分子聚甲基丙烯酸甲酯（poly（methyl methacrylate，PMMA）是一种很普遍的压克力材料，它被大量应用在电子束光阻的材料上，且已商业化。不过这种光阻通常只被用来做“被动”的电子束光阻材料，本身并无功能性。
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