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羧基修饰纳米SiO2荧光指印试剂的制备与应用

作者:陈煜太; 黄威; 姜红; 王元凤指印纳米二氧化硅荧光小颗粒悬浮液

摘要:指印是一种重要的证据形式,它百年以来持续成为法庭科学领域的研究重点。在实践中,已经得到广泛推广的粉末法和熏显法对环境和工作人员的身体健康构成了重大威胁。近年来发展的纳米悬浮液显现指印的方法能够有效减少纳米粉尘在空气中的悬浮,降低对使用者健康和环境的侵害,并且规避了悬浮液制备过程中分散剂的使用以及有机染料溶液的处理等瓶颈。因此,关注纳米二氧化硅荧光指印显现试剂的制备与应用:首先,利用反相微乳液法制备了掺杂氯化三(2,2’-联吡啶)钌(Ⅱ)·六水化合物的荧光型纳米二氧化硅颗粒;随后,通过氨基硅烷偶联剂的氨基改性以及与丁二酸酐的氨解反应,使用两步法实现了表面羧基化阴离子修饰的荧光二氧化硅纳米材料的合成;此外,利用红外吸收光谱对纳米二氧化硅,以及目标产物的表面氨基、羧基等化学修饰基团进行表征,并测定了不同修饰产物在水相中的表面电性能以其水合半径;通过紫外可见光吸收光谱和分子荧光光谱仪对材料的荧光性能做了检测,测试了不同染料浓度产物的荧光强度;对新型纳米材料在指印显现中的应用条件进行了系统考察,通过正交试验设计法,全面探究了pH值、母液稀释倍数和显现时间等重要因素对于指印显现效果的综合影响,并最终确定了此种显现试剂的最佳显现条件;论文最后依据上述优化实验条件对捺印在玻璃非渗透性光滑客体表面的指印样品的显现效果进行了系统评价。实验结果表明:产物悬浮液与染料溶液的紫外可见吸收光谱之间并未发生明显的红移或蓝移,这意味着二氧化硅包覆对于荧光染料分子结构没有显著影响;根据染料浓度与产物荧光强度之间的变化关系可知,最佳染料掺杂浓度为15 mmol·L^-1;纳米材料的表面氨基化和羧基化修饰已经成功,其最佳激发光源波长为375 nm;Zeta电�

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光谱学与光谱分析

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