作者：彭松; 肖斌平; 郝建奎; 谢大弢nbn薄膜性能研究制备超导转变温度直流偏压磁控溅射择优取向薄膜生长temxrdtco气流量
摘要：采用磁控溅射和直流偏压二极溅射两种方法制备了NbN薄膜. 用XRD和TEM测量比较了两种不同溅射方法获得的NbN薄膜的特点, 并测量了NbN薄膜的超导转变温度Tc. 采用两种溅射方法都得到了致密、均匀、单一δ相的多晶NbN薄膜, 薄膜生长的择优取向受温度和氮气流量的影响很大, 薄膜的超导转变温度受溅射室本底真空影响较大.
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