作者：岳天峰; 刘嘉琪; 文峰; 马艳平; 丁春华; ...射频溅射c掺杂tio2薄膜表面能带隙宽度光催化
摘要：采用射频磁控溅射法,选择CO2气相提供反应溅射时的碳和氧源,通过改变基底负偏压制备得到系列C掺杂TiO2(C∶TiO2)薄膜.紫外G可见分光光度计测定薄膜的透射率并用tauc作图法得到薄膜的带隙宽度,发现基底负偏压的增加有助于带隙宽度的窄化.拉曼光谱、X射线光电子能谱表征了C∶TiO2薄膜的结构和成分及元素化学键合态,分析表明,C∶TiO2薄膜主要为金红石相,C元素替代氧元素与Ti结合形成TiC键实现了C元素的掺杂.对甲基橙的光催化降解实验表明通过气相CO2制备得到的C∶TiO2薄膜具有较好的光催化活性,且随着基底负偏压值的增加,C∶TiO2薄膜对甲基橙的光催化降解效率会达到一个相对峰值后开始下降.测试了薄膜表面3种标准液体的接触角并分别计算了表面能各分量,结果发现,C∶TiO2薄膜受到紫外光照射后表面能中路易斯酸性分量有显著增加,这将有利于促进电子G空穴的有效分离.
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