作者：余建刚; 董磊; 聂宇尧; 时永治; 李德军磁控溅射调制周期力学性能
摘要：为了进一步了解调制周期对HfN/HfB2纳米多层膜力学性能的影响,利用多靶磁控溅射技术,在Si（100）基底上制备了一系列具有相同厚度不同调制周期的HfN/HfB2纳米多层膜.利用XRD、TEM、XPG2台阶仪、纳米压痕仪及摩擦试验机分别分析了多层膜的结构特征、力学性能和室温下摩擦性能.结果表明,室温下沉积的多层膜呈现出结晶/非晶的混合结构;随着调制周期的增大,多层膜的结晶程度先增加后降低,其硬度和弹性模量也呈现出先升高后降低的趋势;当调制周期为40nm时,多层膜的硬度和弹性模量均达到最大值,分别为（36.72±1.3）和（378.41±5.6）GPa,并且此时多层膜具有较高的膜基结合力（Lmax=67.3mN）和较低的平均摩擦系数（0.061）;在调制周期为20nm时,多层膜的残余应力达到最小值为-0.82GPa;经过高温退火后,多层膜的硬度和弹性模量均无明显变化,说明其具有良好的热稳定性;多层膜的结构和力学性能随调制周期的变化归因于晶粒的细化.
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