作者：刘磊; 王涛; 何智兵; 张玲; 易勇; 杜凯耦合反应磁控溅射类金刚石薄膜工作气压
摘要：采用直流／射频耦合反应磁控溅射法在Si（111）衬底上使用高纯石墨靶材制备出了类金刚石（DLC）薄膜。分别采用表面轮廓仪、激光拉曼光谱、傅里叶变换红外光谱、X射线光电子能谱、扫描电镜、白光干涉仪、纳米压痕对薄膜的性能进行了表征和分析。研究了沉积过程中不同工作气压（0．35～1．25Pa）对薄膜沉积速率、结构、表面形貌及力学性能的影响。研究表明，随着工作气压的升高，薄膜的沉积速率逐渐减小，薄膜中sp3含量先升高后降低；薄膜表面粗糙度随工作气压的升高呈现出先降低后升高的趋势，且在工作气压为1．0Pa时达到最小值6．68nm；随着工作气压的升高，薄膜的显微硬度与体弹性模量先升高后降低，且在工作气压为1．0Pa时分别达到最大值11．6和120．7GPa。
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