作者:李义兵; 王小军; 周继承ni3al薄膜磁控溅射微结构电阻特性
摘要:研究了室温下采用直流磁控共溅射法在抛光玻璃和Si基底上沉积Ni3Al合金薄膜的制备工艺、微观结构和电阻特性。采用SEM、EDX、AFM、TEM等测试分析了不同基底、溅射功率、工作气压等因素对薄膜微观结构、成分比和电阻特性的影响。结果表明:采用大功率混合溅射可以得到多晶态Ni3Al纳米舍金薄膜,且呈多层岛状生长。所得薄膜具有良好的导电性,与玻璃相比,在Si基底上的薄膜表面光滑平整,晶粒更小,电阻率略大。然而随着厚度的减小,薄膜的电阻率增加迅速,发生金属向绝缘体过渡的相变,而厚度较大时这种现象不明显,这表明Ni3Al薄膜相变与厚度及晶格中氧含量有关。
注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社