作者：周茜; 胡玉明; 叶志峰; 陈晓敏知识产权保护研发效率专利倾向专利申请量
摘要：长期以来，国内外学术界对知识产权保护制度是否保护与激励创新绩效一直存在争议。本文从新的视角深入剖析研发投入到专利申请的过程，引入研发效率和专利倾向效应，运用自回归滞后模型ARDL方法验证形成两种效应的制度因素，即外商直接投资、进口贸易、技术市场活跃度和知识产权保护力度，对中国企业专利申请量的影响，同时基于此框架验证中国知识产权制度所发挥的作用。研究表明：中国企业实际利用外资额对研发效率未产生显著影响；进口贸易对研发效率产生了消极影响；技术市场活跃度对企业研发效率有较大的积极影响，为专利申请量的增加扩大了基础。中国知识产权保护力度的加强在很大程度上提高了企业的专利申请倾向，促进了专利申请量的提高。
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