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含苝单元聚合物的合成及光学性能

作者:金正能; 路建美; 翟金星; 王丽华; 朱秀林茈酐n三阶非线性荧光

摘要:利用酐为原料合成出N,N'-二(间羟基苯基) 二酰亚胺,再通过与TDI(2,4-甲苯二异氰酸酯)的共聚合成了具有酰亚胺单元的P-π共轭聚合物,利用IR、UV-Vis、元素分析和热重分析对其结构进行了表征.并利用四波混频方法测定了该聚合物的三阶非线性,其响应系数达1.39×10-13 esu,响应时间为132.59 fs.另外,测得其溶液具有较高的荧光发射强度.

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高分子材料科学与工程

《高分子材料科学与工程》(月刊)创刊于1985年,由中华人民共和国教育部主管,中国石油化工股份有限公司科技开发部;国家自然科学基金委员会化学科学部;高分子材料工程国家重点实验室;四川大学高分子研究所主办,CN刊号为:51-1293/O6,自创刊以来,颇受业界和广大读者的关注和好评。 《高分子材料科学与工程》主要报道与高分子材料科学与工程领域有关的高分子化学、高分子物理和物化、反应工程、结构与性能、成型加工理论与技术、材料应用与技术开发的最新研究成果,报道在高分子材料与工程学科及其相关的交叉学科、新兴学科、边缘学科...

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