作者：易善婷; 刘峰; 方志大气压等离子体射流低温等离子体放电特性发射光谱活性粒子谱线强度
摘要：为提高等离子体射流在材料表面处理、环境保护及消毒灭菌等领域中的应用效果,通过在大气压Ar等离子体射流中添加适量NH3/H2O气体,增强等离子体射流活性。利用发射光谱诊断和发光图像拍摄,研究Ar/NH3/H2O等离子体射流NH、OH、O等强氧化性粒子发射光谱强度及射流长度随外加电压和添加气体含量的变化规律,测量相应条件下电压电流波形和Lissajous图形,并对实验结果做机理分析与讨论。研究结果表明,Ar/NH3/H2O等离子体射流主要产生Ar、N2、NH、OH和O等粒子。随外加电压增大,NH、OH和O等粒子谱线强度、射流长度、放电功率和传输电荷均随之增大。当NH3在Ar/NH3气体体系中体积分数达到0.012 5%时,NH自由基发射光谱强度达到最大。在此条件下添加H2O,发现当H2O体积分数达到0.25%时,OH和O粒子谱线强度达到最大,比Ar/NH3放电时OH和O粒子谱线强度分别增加了104.4%和55.8%,而NH粒子谱线强度则下降了18.7%,此时等离子体射流中氧化性粒子(NH、OH和O)总发射光谱强度达到最大,更有利于在材料亲水改性和消毒灭菌等方面应用。
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