作者：孔令丽; 钟顺和表面改性法复合半导体三氧化钼氧化镍光吸收性能
摘要：采用表面改性法制备了负载型复合半导体NiO-MoO3／SiO2，用程序升温还原、X射线衍射、拉曼光谱、透射电镜、比表面积测定和紫外一可见光漫反射光谱技术对固体材料的组成结构和光吸收性能进行了表征．结果表明，NiO—MoO3／SiO2的平均粒径约为10nm，在载体表面存在xNiO·MoO3复合氧化物的微晶，NiO和MoO3在固体材料表面产生相互修饰作用．NiO的加入有助于提高MoO3在载体SiO2表面的分散程度，抑制MoOx的聚合，减小微晶尺寸，而且可以增强固体材料的光吸收性能，提高复合半导体对光能的利用率．
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