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多孔硅研究的回顾与展望

作者:裴立宅; 刘翠娟多孔硅发光机理形成机理阳极腐蚀火花腐蚀化学染色腐蚀

摘要:回顾了多孔硅的研究历史、制备方法、形成机理以及发光机理的研究现状,同时对多孔硅的发展作了展望.

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光电技术应用

《光电技术应用》(CN:12-1444/TN)是一本有较高学术价值的大型双月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《光电技术应用》主要刊登光电系统工程,光电探测,光电器件与材料,测试与试验,电路与控制,信号与信息处理,仿真与评估等光电技术及其应用论文。荣获2006年获信息产业部电子科技期刊年度进步奖。

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