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GaSb基VCSEL刻蚀工艺研究

作者:张昕; 李洋; 王霞; 李杨; 岳光礼; 王志伟...gasb垂直腔面发射激光器腐蚀速率表面形貌酒石酸

摘要:2μm5μm波段GaSb基VCSEL对大气检测技术有着重要的应用,但制备技术的不成熟严重制约着GaSb基VCSEL的发展。刻蚀工艺中出现的下切效应就是器件制备中存在的突出问题。针对上述问题,选择三种不同成分的磷酸系刻蚀液进行了对比性刻蚀实验,并通过台阶仪、扫描电子显微镜(SEM)测试观察了刻蚀速率和表面形貌。实验分析表明,浓度配比为1 m L:1 m L:0.6 g:10 m L的H3PO4:H2O2:C4H6O6:H2O刻蚀液具有良好的腐蚀效果,消除了以往腐蚀过程中出现的下切效应,且垂直形貌好,未出现钻蚀现象,晶片表面平整且光滑,且保持稳定的刻蚀速率0.62μm/min,为激光器制备提供了良好的前期实验基础。

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光电工程

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