作者：雷亮 欧阳琴 施颖光刻套刻对位模式识别纯相位匹配滤波器
摘要：针对光刻对准系统的微纳级对位精度,本文提出一种在图像相关识别的理论分析基础上,利用纯相位匹配滤波算法以及它所特有的相干峰高度旋转敏感特性而进行投影式光刻对准的新型套刻技术。该技术可求得在套刻过程中,掩模板和硅片基板对准标记的相对平移坐标与旋转坐标的量化驱动值,其对位精度与对位效率显著提高。通过实验数据证明了该理论的实验可靠性与有效性。
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《光电工程》（CN：51-1346/O4）是一本有较高学术价值的大型月刊，自创刊以来，选题新奇而不失报道广度，服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《光电工程》刊登内容包括工程光学和光电技术方面的学术论文和技术报告，主要有自适应光学，应用光学，微光学，光电捕获跟踪测量技术，光学设计，薄膜光学，自动控制，电视技术，激光技术，光刻，精密刻划和光电传感技术，光通信，光计算，以及光学方面的其它高新技术。
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