作者：冯伯儒; 张锦; 郭永康干涉光刻激光光刻无掩模波前分割
摘要：激光干涉光刻不受传统光学光刻系统光源和数值孔径的限制,其极限尺寸CD达到曝光波长的1/4,研究了波前分割双光束、三光束方法及四光束无掩模激光干涉光刻方法,提出了可用于五光束和多种多光束和多次曝光的梯形棱镜波前分割干涉光刻方法.用自行建立的梯形棱镜波前分割系统进行了多光束干涉曝光实验,得到孔尺寸约220nm的阵列图形.
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《光电工程》（CN：51-1346/O4）是一本有较高学术价值的大型月刊，自创刊以来，选题新奇而不失报道广度，服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《光电工程》刊登内容包括工程光学和光电技术方面的学术论文和技术报告，主要有自适应光学，应用光学，微光学，光电捕获跟踪测量技术，光学设计，薄膜光学，自动控制，电视技术，激光技术，光刻，精密刻划和光电传感技术，光通信，光计算，以及光学方面的其它高新技术。
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