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离子注镧对镍表面氧化膜生长机制及应力水平的影响

作者:靳惠明; FELIX; Adriana; AROYAVE; Major...离子注入二次离子质谱拉曼氧化镍

摘要:对纯镍及其表面离子注镧样品在900℃空气中的恒温氧化规律进行了研究。采用扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)对NiO膜的微观形貌和结构进行测试。采用激光拉曼(Raman)谱和X射线衍射仪(XRD)对两种样品表面氧化膜的应力状态进行测量。采用二次离子质谱(SIMS)对氧化膜内元素Ni、O和La的深度分布情况进行了测量。结果表明,离子注镧显著降低了镍的恒温氧化速率,细化了表面NiO膜的晶粒尺寸,同时,将氧化膜生长的生长机制由未注镧前Ni2+阳离子向外扩散转变为注镧后O2-阴离子向内扩散为主。X射线衍射和激光拉曼测量均反映出注镧引起的膜内应力降低效应,并且,结合氧化膜内应力深度分布的不均匀性及膜生长过程中存在的稀土元素效应对两种应力测量结果之间存在的偏差进行了细致分析。

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工程科学与技术

《工程科学与技术》(双月刊)创刊于1957年,由中华人民共和国教育部主管,四川大学主办,CN刊号为:51-1773/TB,自创刊以来,颇受业界和广大读者的关注和好评。 《工程科学与技术》主要刊登水利与土木工程、化学与化学工程、材料科学与工程、机械工程、信息工程、电气工程、环境科学与工程、应用物理等工程学科方面研究、开发以及应用的有创造性的学术论文。优先刊登科学与技术领域中探索研究的新成果以及得到自然科学基金资助或重大攻关项目的科研成果。读者对象为高等院校理工类师生、科研人员和工程技术人员。 

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