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共沉淀分离-氢化物发生-原子荧光光谱法测定高纯偏钨酸铵中痕量铋

作者:张殿凯; 郑永章; 臧慕文; 童坚共沉淀氢化物发生原子荧光光谱法偏钨酸铵

摘要:提出了以氢氧化镧为共沉淀剂,对高纯偏钨酸铵中痕量杂质元素铋进行共沉淀分离富集后以HG-AFS进行测定的方法。在强碱性环境中进行两次共沉淀,能使铋元素定量分离回收,偏钨酸铵残留量降至很低水平。选择了适宜的反应条件以及仪器的最佳工作条件,考察了钨基体对被测元素的干扰。铋的检出限0.020 ng/mL,测定下限0.012μg/g,相对标准偏差4.6%,回收率在92.8%-108.4%之间,方法适用于高纯偏钨酸铵中痕量铋的测定。

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分析试验室

《分析试验室》(月刊)创刊于1982年,由中国科学技术协会主管,中国有色金属学会;有研科技集团有限公司主办,CN刊号为:11-2017/TF,自创刊以来,颇受业界和广大读者的关注和好评。 《分析试验室》是国内外公开发行的综合性分析化学刊物。主要特点是突出创新性和实用性,是理论与实践、学术与应用并蓄的专业期刊。设专栏系统特邀知名专家撰写的分析化学各专业近期进展,力求全面系统地跟踪报道分析化学科研与应用的前沿发展状况,介绍近期重要分析化学国际会议。

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