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钴氮原位共掺杂SiO2@C修饰电极同时检测邻苯二酚和对苯二酚

作者:余惠武; 郑凤英; 周海逢; 林帆; 李跃海; ...聚多巴胺碳材料原位掺杂邻苯二酚对苯二酚电化学检测

摘要:本文利用多巴胺易聚合、易还原和较强金属配位能力的特性,制备了聚多巴胺(PDA)包覆SiO2,表面键合Co2+,在氮气氛围条件下,于800℃煅烧制备钴氮原位共掺杂SiO2@C(SiO2@C/N-Co)复合材料.分别应用扫描电镜、透射电镜、电化学方法对该材料进行结构和电化学性能表征.与氮掺杂SiO2@C相比,钴掺杂后检测100μmol/L邻苯二酚(CC)和对苯二酚(HQ),其氧化峰电流值分别由-39.17μA和-24.0μA增加到-119.4μA和-110.8μA,即分别提高3.05和4.62倍.SiO2@C/N-Co修饰电极可同时检测CC和HQ,其检出限分别为0.17、0.09μmol/L,线性范围分别为1.0~200μmol/L、0.5~400μmol/L.应用该方法检测九龙江水,对CC和HQ的回收率范围为96%~101.5%,相对标准偏差小于5%.

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分析科学学报

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