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原位制备细晶Si3N4-Si2N2O复相陶瓷

作者:骆俊廷; 张凯锋; 王国峰; 陈国清复相陶瓷原位制备纳米si3n4细晶纳米陶瓷粉体平均粒径保温时间相对密度al2o3烧结助剂y2o3液相烧结原位反应体积分数相变过程烧结体长大长径比孔隙致密度晶粒球形

摘要:以Y2O3和Al2O3纳米陶瓷粉体作为烧结助剂,液相烧结非晶纳米Si3N4陶瓷粉体,制备Si3N4-Si2N2O复相陶瓷.Si2N2O相通过原位反应2Si3N4(s)+1.5 O2(g)=3Si2N2O (s)+ N2(g)生成.1600℃烧结,烧结体保温30min,Si2N2O体积分数达到52%,基本由细小均匀的球形晶粒构成,平均粒径尺寸210nm,相变过程中,个别颗粒异常长大,长径比达到1.5.保温时间对孔隙、密度和粒径产生重要影响:随着保温时间的延长,孔隙逐渐收缩减小,烧结体的致密度逐渐提高,晶粒逐渐长大,保温60min,孔隙几乎完全闭合,相对密度达到99.1%,平均粒径280nm.当保温时间达到90min时,相对密度增加并不明显,但平均粒径长大到360nm.

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粉末冶金技术

《粉末冶金技术》(CN:11-1974/TF)是一本有较高学术价值的大型双月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。

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