多层片式压敏电阻器的最新发展动向

作者：王兰义; 吕呈祥; 唐国翌电子技术多层片式压敏电阻器综述爬镀水基流延静电放电保护

摘要：介绍了多层片式压敏电阻器的现状，分析了当前工艺中存在的问题（内电极与瓷体材料的反应和端电极的爬镀）和解决的办法，指出了其最新的发展动向。在工艺技术乖应用上，多层片式压敏电阻器向小型化、阵列化、模块化及低电容等方向发展；同时还要从环境保护和生产成本角度来考虑，采取水基流延制备工艺和采用新配方或纳米材料来降低压敏陶瓷烧结温度。

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