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细间距图形电路无氰化学镀金工艺研究

作者:刘东光 胡江华图形电路化学镀金细间距表面

摘要:采用市售无氰化学金工艺在线宽/间距(50μm/50gm)精细图形电路表面化学镀金。镀层表面均匀一致,厚度可达2μm以上,无镀金层溢出现象。新的化学镀金工艺作为微带板可焊性表面处理技术之一,兼具可选择区域镀、可接触导通、良好的键合性能,能兼容各种助焊剂,对于细间距图形电路表面处理具有十分重要的意义。

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电子与封装

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