作者:李利娟; 刘施峰; 林男; 邓超钽阳极氧化ta205纳米管
摘要:以高纯钽板为基底,采用电化学阳极氧化法在H2S04/HF溶液中制备出排列整齐,开孔率高,管壁光滑的Ta205纳米管。本实验通过优化样品前期处理工艺(在样品表面形成一层自组织的多孔Ta205氧化膜模板),同时调控阳极氧化电压和时间,实现了纳米管管径和管长的可控性生长,提高了Ta205纳米管的形貌质量。结果表明经过电解抛光后再进行阳极氧化得到的纳米管表面没有氧化物残留,开孔率高并且管壁光滑。阳极氧化电压恒定时,管径随氧化时间的增加基本保持不变,管长呈直线增长趋势。阳极氧化电压对于Ta205纳米管的形成及其形貌具有重要影响。当氧化时间为30s时,在低电压5V下并不会形成纳米管,在15V和25V条件下在钽基板上生成Ta205纳米管,其平均管径分别为45nm和55nm,纳米管的平均长度分别为1.46pm和4.03pm。XRD结果表明钽金属表面生成的一层纳米管薄膜为无定形态Ta205,并以罗丹明B为目标降解物,考察了Ta205纳米管薄膜的光催化活性,结果显示模拟太阳光下光照2h后Ta205纳米管催化剂对罗丹明B染料的降解率为93%。
注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社