Altera的Quartus Ⅱ 4．2进一步提升FPGA和CPLD性能

作者：剑ic动态功耗fpga深亚微米待机静态功耗cpld提升行权工艺水平

摘要：在亚微米工艺水平阶段，动态功耗占IC总功耗的比重较大，但随着工艺尺寸不断减小，深亚微米制造工艺正在逐步成熟并被广泛采用，这使得静态功耗，特别是待机功耗在IC总功耗中的比例逐渐增大，同时漏电流也在随之增大。这就需要在提升IC的工作速度和降低功耗之间进行权衡。

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